| 项目名称 |
等离子体增强化学气相沉积（PCVD）技术 |
负责人 |
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| 通讯地址 |
西安交通大学 |
邮政编码 |
710049 |
| E-mail |
auler@sohu.com |
所在院所 |
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| 联系人 |
张旭峰 |
电话 |
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传真 |
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| 技术来源 |
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| 拥有专利 |
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专利号 |
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| 项目简介 |
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等离子体增强化学气相沉积（PCVD）技术是在一定温度和气压的真空炉内通入工作气体，产生辉光放电，激活沉积反应，从而在基材表面形成耐磨损、抗氧化的陶瓷涂层。本项目为PCVD工业生产型设备及模具强化成套技术，1999年1月通过了国家教育部组织的技术鉴定，认为该项目在设备总体结构的优化设计、逆变式脉冲直流等离子体技术、脉冲直流PCVD法制备高性能TiN陶瓷涂层和表面强化技术等方面均具有创新性，设备与工艺技术总体达到国际先进水平。
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该成果在机械、冶金、电子和轻工等大量使用模具的行业中有广阔的应用前景，推广应用可以产生巨大的经济和社会效益。例如我国98年模具费用为250亿元，而经PCVD模具强化技术处理后，模具寿命至少提高一倍。按1亿元的市场占有率（2-3个模具消耗大户）和10%的技术服务费计算，则每年创产值1000万元，利润200万元。
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希望双方合作举办企业，推广此项技术。
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总投资：400万元
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设备固定资产投资：300万元
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流动资金投资：100万元
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预计年产值：1000万元
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年利润：200万元
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| 项目优势 |
√
A 市场发展前景很好
B 产品或工艺创新性突出
√
C 经济效益显著
D 社会效益显著
E 其他
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| 现处阶段 |
A 研发阶段
B 小试阶段
C 中试阶段
D 批量生产阶段
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| 技术领先 |
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| 项目可行性分析 |
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| 合作项目 |
| 项目总投资(万) |
基建费(万) |
设备费(万) |
成果转让费(万) |
流动资金(万) |
其他(万) |
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400万元 |
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300万元 |
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100万元 |
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| 厂房/办公面积及人员要求 |
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| 预计年产量 |
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年销售额 |
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| 成本(万) |
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利润(万) |
200万元 |
| 年投资回报率% |
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投资回收期 |
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| 其他需要说明的问题 |
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